FILTRE DE POMPE À VIDE LVGE

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Évaporisation par faisceau d'électrons et pompe à vide

Dans le domaine complexe du dépôt de couches minces, l'évaporation par faisceau d'électrons se distingue par sa capacité à créer des revêtements denses et de haute pureté. Une question fondamentale concernant cette technologie est de savoir si elle nécessite une pompe à vide. La réponse est sans équivoque : oui. Un système de vide performant n'est pas un simple accessoire, mais une condition sine qua non au bon fonctionnement du procédé.

Le principe de l'évaporation par faisceau d'électrons consiste à focaliser un faisceau d'électrons de haute énergie sur un matériau source (tel que l'or, l'oxyde de silicium ou l'aluminium) contenu dans un creuset refroidi à l'eau. Le chauffage local intense provoque la fusion et la vaporisation du matériau. Ces atomes vaporisés se déplacent ensuite en ligne droite et se condensent sur un substrat, formant un film mince. L'ensemble de ce processus dépend crucialement d'un environnement sous vide poussé, généralement de l'ordre de 10⁻³ Pa à 10⁻⁶ Pa.

Évaporation par faisceau d'électrons

La nécessité d'un vide aussi extrême est triple. Premièrement, elle garantit le passage sans obstacle du faisceau d'électrons. En présence d'un trop grand nombre de molécules de gaz, les électrons se disperseraient et entreraient en collision, perdant ainsi leur énergie et ne parvenant pas à délivrer une chaleur concentrée à la cible. Le faisceau se défocaliserait, rendant le processus inefficace.

Deuxièmement, et surtout, le vide garantit la pureté et la qualité du film déposé. Sans lui, les gaz résiduels comme l'oxygène et la vapeur d'eau contamineraient le revêtement de deux manières désastreuses : ils réagiraient chimiquement avec le matériau vaporisé pour former des oxydes indésirables et s'incorporeraient au film en formation sous forme d'impuretés. Il en résulterait un film poreux, moins adhérent et aux propriétés mécaniques et optiques inférieures. Le vide poussé crée un chemin direct et précis pour les atomes vaporisés, leur permettant de se condenser en une couche dense, uniforme et d'une grande intégrité.

Enfin, le vide protège le filament du canon à électrons. La cathode thermoïonique, qui émet des électrons, fonctionne à des températures extrêmement élevées et s'oxyderait et brûlerait presque instantanément au contact de l'air.

Par conséquent, un système de pompage sophistiqué, combinant des pompes primaires et des pompes à vide poussé telles que les pompes turbomoléculaires ou à diffusion, est indispensable. En conclusion, la pompe à vide ne se contente pas de permettre l'évaporation par faisceau d'électrons ; elle la définit, créant un lien indissoluble, essentiel à la production des revêtements haute performance exigés par les industries, des semi-conducteurs à l'optique. Il devrait également y avoirfiltrespour protéger les pompes à vide, s'il n'y en a pas,Contactez-nous.


Date de publication : 12 novembre 2025